Etch & Deposition Process Components

ドライエッチング・成膜装置用部品

Focus Ring / Edge Ring / Single Ring / Cover Ring

プラズマエッチング装置のウエハ周縁部に設置されるリング部品群です。エッチングの均一性とウエハエッジの保護を担い、プラズマ耐性・寸法精度・表面品質のすべてが歩留まりに直結します。当社は高純度石英および精密セラミックスにより、ミクロン単位の公差で安定供給します。

Isolator Ring / Shield Ring / Top Ring

チャンバー内の絶縁・遮蔽を担う部品です。複雑な三次元形状にも5軸CNC加工で対応し、火加工と冷加工を統合したワンストップ供給を実現します。

Showerhead (Porous Plate)

反応ガスを均一に供給する多孔板部品です。微細孔の位置精度と内壁品質が成膜均一性を左右します。高精度ドリル加工と検査体制で全数保証します。

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「出荷即精品」の品質方針のもと、すべての精密部品がミクロン単位の公差基準を達成。半導体製造装置メーカー様の厳しい要求に応え続けています。

小田和正

技術部 / TOCHANCE

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